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Plasma Chemistry And Plasma Processing

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语言: 英文
所在数据库: Springer
更新时间: 2026-04-06 14:32:58

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Plasma Chemistry And Plasma Processing 《Plasma Chemistry and Plasma Processing》发表等离子体化学、等离子体处理及等离子体应用的研究。内容涵盖等离子体催化、环境治理、生物医学应用、表面改性及纳米材料合成,探讨等离子体在化学反应与材料加工中的独特作用。在中科院分区中,该刊位于物理与天体物理大类3区,小类学科工程:化工、物理:应用及物理:流体与等离子体均为3区;JCR分区为Q2,2023年影响因子为2.6。
专业
工程学 化学 物理学 应用物理学 流体 等离子体 化学工程 化学 表面 涂层 薄膜 凝聚态物理
分区
SCIE EI